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无牙上颌患者两侧颊间隙过深的特殊设计与制作
来源: 廊坊圣洁口腔医院
时间:2018-03-21
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  无牙上颌患者两侧颊间隙过深的情况在临床中比较少见,廊坊圣洁口腔医院的专家充分利用两侧过深的颊间隙来制作带有阻塞器的上颌总义齿,均达到满意的修复效果。

  临床资料

  2010年至2014年,共接诊3例该类患者,年龄在65岁~70岁之间,其中男性1例,女性2例。患者均表现两侧颊面部凹陷,进食后两侧颊间隙食物嵌塞。口腔检查可见两侧上颌结节颊侧有约2.0×1.5×2.2cm3的凹陷,粘膜正常,牙槽嵴完整,下颌1例有余留牙,2例无余留牙。

  设计与制作方法如下:

  1、取印模:常规取初、终印模,注意做好肌功能修整,取得精确的终印模,应注意尽量将两侧颊间隙完整反映在印模上。

  2、灌制模型:用超硬石膏灌注,将两侧颊间隙处的印模完全包住,灌底座时不要施加压力,防止模型断裂及颊间隙倒凹印模变形。模型灌制完成后,将两侧过深颊间隙内过大倒凹作适当缓冲。

  3、制作上托:模型表面涂分离剂,用双层蜡片制作基托,在两侧颊间隙处用软蜡填入,体积稍小于颊间隙。

  4、常规颌位记录、上架、排牙。

  5、试戴:旋转就位。除常规检查颌位记录及外形外,还应重点检查两侧颊间隙是否充满,有无压痛等。

  6、完成蜡型,常规装盒、填胶、热处理、打磨、抛光

  7、戴牙:再次检查颊间隙情况,面部外形,调,医嘱。

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